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精准修复铜基石墨烯缺陷的普适性方法
编号：208 访问权限：仅限参会人 更新：2023-03-28 14:15:02 浏览：693次 口头报告

报告开始：2023年04月23日 15:25（Asia/Shanghai）

报告时间：15min

所在会场：[Y2] 第十四届全国青年表面工程论坛二 [M2] 下午场

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摘要
化学气相沉积方法在制备铜基石墨烯薄膜的过程中不可避免的会出现空位、孔洞、石墨烯岛边界、裂纹等缺陷，这些缺陷会导致石墨烯的导电性能和腐蚀屏蔽性能等关键性能急剧降低，甚至石墨烯与基底铜之间的电偶腐蚀会加速金属基底的腐蚀速率。我们提出含有疏水官能团的功能分子与缺陷暴露出的铜基底形成化学键，从而精准且高效的修复铜基石墨烯缺陷，这种方法对铜基石墨烯表面的各种尺寸和各种类型的缺陷都具有普适性的修复效果，该方法可以衍生出大量的修复石墨烯缺陷的功能分子，且缺陷修复后石墨烯的导电性能不受影响，长效腐蚀屏蔽性能显著提升。
 
关键词
铜基石墨烯; 缺陷; 电偶腐蚀; 修复; 电学性能
报告人
吴英豪
中国科学院宁波材料技术与工程研究所

稿件作者
吴英豪 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
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重要日期

  • 会议日期

    04月21日

    2023

    至

    04月23日

    2023

  • 04月20日 2023

    初稿截稿日期

  • 04月23日 2023

    注册截止日期

主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
武汉材料保护研究所有限公司
特种表面保护材料及应用技术国家重点实验室
协办单位
中国科学院兰州化学物理研究所
中国科学院宁波材料技术与工程研究所
中国科学院上海硅酸盐研究所
中国科学院金属研究所
广东省新材料研究所
大连理工大学
西安交通大学
北京科技大学
西南交通大学
哈尔滨工业大学
联系方式
  • 段金弟（中国机械工程学会表面工程分会）
  • ab******@126.com
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  • 蒋超（中国机械工程学会表面工程分会）
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