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Dynamics of armature-rail electrical contact under multi-physics field coupling
编号：124 访问权限：仅限参会人 更新：2024-08-15 10:53:38 浏览：96次 张贴报告

报告开始：暂无开始时间（Asia/Shanghai）

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摘要
电磁轨道发射器工作在电磁-热-力多物理场耦合的极端冲击条件下。电枢和电源轨的接触状态与整个系统的输出性能和工作效率有关，脉冲电流和界面粗糙度对接触状态有显著影响。搭建了电磁轨道发射实验平台，并对枪口电压、轨道电流和接触电阻进行了实验测量。构建了多物理场耦合电枢-导轨电接触模型，分析了电枢和导轨的电流密度、温度和磁通密度的分布规律。此外，还研究了电流幅值和摩擦因子对其 动态特性以及温度和磁通密度的影响。
 
关键词
Dynamic characteristics,Electromagnetic emission,Interface roughness,Multi-field coupling
报告人
Luyao Liu
student Shandong University

稿件作者
Luyao Liu Shandong University
Pengfei Lu Shandong University
Jingtong Feng Shandong University
Ali Mohammed Ali Abdo Shandong University
Yisong Wang Shandong University
Hongshun Liu Shandong University
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重要日期

  • 会议日期

    11月06日

    2024

    至

    11月08日

    2024

  • 09月15日 2024

    初稿截稿日期

  • 11月08日 2024

    注册截止日期

主办单位
Huazhong University of Science and Technology
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