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活动简介
  全国薄膜技术学术研讨会是国内有关薄膜技术有影响的系列学术会议,自2003年确定每二年召开一次。“TFC,09全国薄膜技术学术研讨会”将由中国真空学会薄膜专业委员会主办,成都电子科技大学等单位承办。定于2009年8月中旬在四川成都市举行。本次会议是一次较大规模的学术活动,会议将研讨、展示近二年来我国薄膜材料与技术的最新成就,会议还将邀请薄膜技术研究方面有较高造诣的专家到会作精彩报告。会议特向全国从事薄膜科学与技术的科技工作者、企事业单位征集论文,会议热情地欢迎有关的科研院所、大专院校、企业的人士报名参加会议。
征稿信息

重要日期

2009-06-30
初稿截稿日期

征稿范围

一.征文范围: 1. 当代薄膜科学与技术的展望; 2. 薄膜技术成膜机理或最新理论; 3. 薄膜产业化发展的综述; 4. 信息存储薄膜的发展; 5. 平板显示器的薄膜技术发展综述; 6. 光学薄膜制备工艺的最新进展; 7. 微电子薄膜技术的最新发展; 8. 与新能源、新材料等相关的薄膜技术; 9. 硬质薄膜技术的最新发展及应用; 10. 纳米多层薄膜研制与展望; 11. 新的功能薄膜技术最新成果与展望; 12. 大面积镀膜、规模化生产的薄膜工艺技术的最新发展; 13. PVD(物理气相沉
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重要日期
  • 08月10日

    2009

    会议日期

  • 06月30日 2009

    初稿截稿日期

  • 08月10日 2009

    注册截止日期

主办单位
中国真空学会薄膜专业委员会
历届会议
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